
臺(tái)積電(2330)昨(23)日與德商Dialog半導(dǎo)體共同宣布,雙方將針對(duì)行動(dòng)產(chǎn)品的高效能電源管理芯片,量身打造BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)0.25微米高壓制程技術(shù)。該技術(shù)能將各種高電壓功能有效整合在單一電源管理芯片中,
可編程邏輯組件大廠賽靈思(Xilinx)昨(23)日宣布,將采用臺(tái)積電(2330)高效能(HPL)及三星電子低功耗(LPMZ)等28奈米高介電金屬閘極(High-K Metal-Gate,HKMG)制程,生產(chǎn)下一世代的可編程邏輯門(mén)陣列(FPGA)
晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)日前與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)者艾司摩爾(ASML)共同宣布,臺(tái)積電將取得ASML的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,是全球六個(gè)取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶(hù)伙伴之一。 該套AS
臺(tái)積電(TSM-US;2330-TW)近期捷報(bào)不斷,美商Xilinx今(23)日才宣布采用其28奈米制程,下午臺(tái)積電又與德商 Dialog半導(dǎo)體共同宣布,雙方正密切合作,為行動(dòng)產(chǎn)品的高效能電源管理芯片,量身打造BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)制
《華爾街日?qǐng)?bào)》周二報(bào)導(dǎo)指出,隨著NEC電子(NEC Electronics Corporation;6723-JP)與富士通微電子(Fujitsu Microelectronics;)等日本廠商釋出大量代工訂單,臺(tái)積電(2330-TW)與聯(lián)電(2303-TW)必將受惠。 分析
去年夏季,一直走Gate-first工藝路線的臺(tái)積電公司忽然作了一個(gè)驚人的決定:他們將在其28nm HKMG柵極結(jié)構(gòu)制程技術(shù)中采用Gate-last工藝。不過(guò)據(jù)臺(tái)積電負(fù)責(zé)技術(shù)研發(fā)的高級(jí)副總裁蔣尚義表示,臺(tái)積電此番作出這種決定是要
去年夏季,一直走Gate-first工藝路線的臺(tái)積電公司忽然作了一個(gè)驚人的決定:他們將在其28nmHKMG柵極結(jié)構(gòu)制程技術(shù)中采用Gate-last工藝。不過(guò)據(jù)臺(tái)積電負(fù)責(zé)技術(shù)研發(fā)的高級(jí)副總裁蔣尚義表示,臺(tái)積電此番作出這種決定是要“
晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)宣布擴(kuò)大與中國(guó)地區(qū)的集成電路(IC)產(chǎn)業(yè)化基地和技術(shù)中心合作,積極推展這種成功的合作模式與經(jīng)驗(yàn),運(yùn)用臺(tái)積電的專(zhuān)業(yè)IC制造技術(shù)與服務(wù)支持IC產(chǎn)業(yè)「育成中心(incubator,編按:大陸用詞為“孵
臺(tái)積電(2330)昨(22)日宣布,將取得艾司摩爾(ASML)超紫外光 (Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,將使得臺(tái)積在22奈米以下的最先進(jìn)制程領(lǐng)先全球。 臺(tái)積電目前40奈米擁有90%以上高市占率,今 將舉行一年一度
日本媒體日刊工業(yè)新聞23日?qǐng)?bào)導(dǎo),可程序邏輯組件廠商Xilinx, Inc.將委托臺(tái)灣臺(tái)積電(2330)和南韓三星電子生產(chǎn)采用28奈米(nm)制程的可編程邏輯門(mén)陣列組件(Field-Programmable Gate Arrays, FPGA);此也將為Xilinx首度委
〔記者洪友芳/新竹報(bào)導(dǎo)〕虎年開(kāi)市,晶圓雙雄股價(jià)持穩(wěn)上漲,帶動(dòng)晶圓代工類(lèi)股皆收紅,奪得新春好采頭,臺(tái)積電(2330)并宣布取得荷商ASML公司的超紫外光微影設(shè)備,以發(fā)展新世代制程技術(shù),有機(jī)會(huì)降低生產(chǎn)成本。 臺(tái)
臺(tái)積電(2330)與微影設(shè)備大廠荷商艾司摩爾(ASML)昨(22)日共同宣布,臺(tái)積電將取得ASML的TWINSCAN NXE:3100極紫外光(Extreme Ultra-Violet,EUV)微影設(shè)備。這是臺(tái)積電在布局多重電子束的無(wú)光罩(maskless)、雙
臺(tái)積電(TSMC)宣布,過(guò)去幾個(gè)月來(lái),該公司與MAPPER公司的工程師們一同在晶圓十二廠中將電子束直寫(xiě)能力整合至制程中,目前,MAPPER公司安裝在臺(tái)積電晶圓十二廠超大晶圓廠的原型機(jī)臺(tái)正不斷地重復(fù)寫(xiě)出超威小電路組件,
去年夏季,一直走Gate-first工藝路線的臺(tái)積電公司忽然作了一個(gè)驚人的決定:他們將在其28nm HKMG柵極結(jié)構(gòu)制程技術(shù)中采用Gate-last工藝。不過(guò)據(jù)臺(tái)積電負(fù)責(zé)技術(shù)研發(fā)的高級(jí)副總裁蔣尚義表示,臺(tái)積電此番作出這種決定是要
盡管農(nóng)歷年前經(jīng)濟(jì)部已明確宣布晶圓登陸松綁的相關(guān)實(shí)施辦法,惟整體來(lái)看,就現(xiàn)行晶圓登陸松綁政策而言,似乎仍?xún)H有開(kāi)放晶圓業(yè)者可于大陸地區(qū)參股一案,較具實(shí)質(zhì)幫助,預(yù)料這將有助于臺(tái)積電(2330)被動(dòng)接收中芯國(guó)際10%股
臺(tái)積電與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今(22)日共同宣布,臺(tái)積公司將取得ASML公司TWINSCAN? NXE:3100 超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,是全球六個(gè)取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶(hù)伙伴之一。 臺(tái)積電指出,這項(xiàng)設(shè)備將
全球晶圓代工霸主臺(tái)積電(TSM-US;2330-TW)虎年持續(xù)躍進(jìn),今(22)日與荷蘭艾司摩爾(ASML;ASML-US)共同宣布,臺(tái)積電將取得ASML公司的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,將安裝于臺(tái)積電
OmniVision Technologies是一家領(lǐng)先的高級(jí)數(shù)字成像解決方案開(kāi)發(fā)商,今天宣布推出世界第一款 1.1 微米背面照度像素技術(shù)。這套全新的 OmniBSI-2TM 像素架構(gòu)是數(shù)字成像技術(shù)發(fā)展歷史中的重要里程碑,可以為新的成像解決方
據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,三星將擠下晶圓雙雄,成為蘋(píng)果最新平板計(jì)算機(jī)iPad微處理器A4的代工廠;蘋(píng)果還計(jì)劃未來(lái)iPhone、iPod處理器改由自行開(kāi)發(fā)芯片、交給三星代工制造,恐使臺(tái)積電、聯(lián)電的蘋(píng)果代工版圖重整。紐約時(shí)報(bào)近期報(bào)
TSMC今日宣布,擴(kuò)大與中國(guó)大陸地區(qū)的集成電路產(chǎn)業(yè)化基地和技術(shù)中心合作,積極推展這種成功的合作模式與經(jīng)驗(yàn),運(yùn)用TSMC的專(zhuān)業(yè)集成電路制造技術(shù)與服務(wù)支持「孵化器」(incubator)的新一輪發(fā)展,協(xié)助加快中國(guó)集成電路設(shè)計(jì)