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目前最高制造精度，美Zyvex產(chǎn)出0.7nm線寬芯片
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日美國一家商業(yè)精密制造公司Zyvex表示制出了亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1，這個系統(tǒng)沒有采用EUV光刻技術(shù)，但是卻能產(chǎn)出只有0.7nm線寬的芯片，是目前最高制造精度。
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Inpria與SK hynix聯(lián)合開發(fā)金屬氧化物抗蝕劑，降低新一代DRAM的制版復(fù)雜性
JSR株式會社(JSR Corporation)今天宣布加速與SK hynix Inc.的合作開發(fā)進程，以便將JSR旗下公司Inpria的極紫外光刻(EUV)金屬氧化物抗蝕劑(MOR)應(yīng)用于制造先進的DRAM芯片。Inpria擁有廣泛專利的EUV金屬氧化物光刻膠平臺使客戶能夠高效地對先進節(jié)點設(shè)備架構(gòu)進行制版。
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美國要求ASML擴大對華光刻機的禁售范圍
為了遏制中國的發(fā)展，美國近年來對華采取一系列的干預(yù)和打壓措施已經(jīng)屢見不鮮，在高新科技領(lǐng)域的技術(shù)封鎖/貿(mào)易封鎖更是美國的慣用伎倆，半導(dǎo)體就是這樣的一個領(lǐng)域。據(jù)近日報道，美國為了全面遏制中國的半導(dǎo)體業(yè)發(fā)展，已經(jīng)向荷蘭政府施壓，要求荷蘭光刻機公司阿斯麥(ASML)擴大對華的禁售范圍，在禁止向中國出售最先進的極紫外線光刻機(EUV)基礎(chǔ)上，進一步將禁售范圍擴大到上一代技術(shù)深紫外線光刻機(DUV)的出口。
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一季度5nm及更先進處理器三星占據(jù)高達60%的代工
這些年，手機芯片成為領(lǐng)跑先進制程的代表，當(dāng)前，高通驍龍、聯(lián)發(fā)科天璣等均已進入4nm，年內(nèi)甚至有望迎來首顆3nm手機處理器。
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三星李在镕本周或到訪阿斯麥：搶購EUV光刻機
據(jù)外媒消息，三星電子副會長李在镕有望在本周到訪荷蘭光刻機制造商阿斯麥(ASML)，媒體認為他此行是為了搶購EUV光刻機。 據(jù)悉，李在镕的荷蘭商務(wù)旅行將從6月7日開始，一直持續(xù)到6月18日。
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在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上，JSR在ArF光刻膠領(lǐng)域以24%的市場份額位居全球第一
極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。
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日本光刻膠巨頭JSR："中國很難發(fā)展自己的EUV"
5月23日消息，據(jù)報道，近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執(zhí)行官埃里克約翰遜(Eric Johnson)在接受采訪時表示，盡管中國在努力推動芯片的自給自足，但中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必要的基礎(chǔ)設(shè)施不足，比如很難掌握基于極紫外(EUV)光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù)，發(fā)展先進制程的芯片制造技術(shù)將非常困難。
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19億一臺光刻機賣爆了！ ASML預(yù)計只能滿足60%左右深紫外(DUV)光刻機訂單需求
數(shù)據(jù)顯示，公司一季度凈收入35億歐元，毛利率49%，凈利潤6.95億歐元，新增凈訂單額70億歐元，其中來自0.33NA+0.55NA EUV光刻機的量達到25億歐元。
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應(yīng)用材料公司以技術(shù)助力極紫外光和三維環(huán)繞柵極晶體管實現(xiàn)二維微縮
2022 年 4 月 21 日，加利福尼亞州圣克拉拉市——應(yīng)用材料公司推出了旨在幫助客戶利用極紫外光(EUV)繼續(xù)推進二維微縮的多項創(chuàng)新技術(shù)，并詳細介紹了業(yè)內(nèi)最廣泛的下一代三維環(huán)繞柵極晶體管制造技術(shù)的產(chǎn)品組合。
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5nm EUV工藝,三星Exynos 1280處理器發(fā)布
日前，三星悄然公布了一款新手機處理器，并已經(jīng)搭載在Galaxy A33/A53/M53等中端產(chǎn)品上。
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繞過EUV光刻機？國產(chǎn)企業(yè)紛紛投身于光刻機領(lǐng)域，DUV光刻機突破指日可待
極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。
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俄羅斯計劃6.7億盧布研發(fā)全新EUV光刻機
光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。
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為了未來還是汽車芯片？英特爾芯片廠已安裝多臺EUV設(shè)備
考慮到 EUV 光刻機的產(chǎn)能有限，因此各大晶圓廠商都希望能夠第一時間入手最新一代的光刻機，從而提升自家晶圓的產(chǎn)能，英特爾也正不斷地采購 EUV 光刻機，以滿足先進制程晶圓的制造。
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EUV光刻機工廠突發(fā)大火,暫無人員損傷
這一年多來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)能緊張，臺積電等芯片制造公司也在積極擴大產(chǎn)能，光刻機之類的設(shè)備很搶手，在這個關(guān)鍵時刻，全球光刻機一哥ASML的工廠發(fā)生火災(zāi)，目前損失還在評估中。
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早年被EUV聯(lián)盟孤立 臺積電大佬講述翻身內(nèi)幕
這幾年中，臺積電一躍成為半導(dǎo)體制造行業(yè)的大哥，不僅是全球晶圓代工的絕對主力，而且先進工藝也超越了Intel、三星等對手，更是首發(fā)了EUV光刻工藝，明年還要量產(chǎn)3nm工藝。
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ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機仍供不應(yīng)求 ,更新型的光刻機即將發(fā)布
受市場缺芯影響，不少半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)都上調(diào)了業(yè)績預(yù)期，ASML公司便是其中之一。在10月3號舉辦的在線投資者活動中，ASML表示， 2025年公司總營收預(yù)計會在240億歐元到300億歐元之間。
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三星和臺積電已經(jīng)開始接受5nm訂單，沒有EUV也能突破5nm？
三星和臺積電已經(jīng)開始接受5nm的訂單，今年的風(fēng)險試產(chǎn)和明年的批量生產(chǎn)。我們預(yù)計兩家公司將在5納米采用更多的EUV層，三星為12層，臺積電為14層。
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EUV光刻機再出新規(guī)：臺積電、三星、英特爾都在爭奪EUV光刻機訂單
伴隨著芯片危機和科技制裁等熱議話題的出現(xiàn)，光刻機尤其是極紫外和深紫外EUV光刻機不可避免的成為時下科技界議論與發(fā)展的對象。
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全球最頂尖光刻機巨頭出貨超 100 臺：EUV 時代全面加速！
ASML大家都不陌生，它是全球最頂尖的光刻機巨頭，旗下的EUV光刻機更是目前最先進的半導(dǎo)體設(shè)備之一，可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片。之前，國內(nèi)一直都想要從ASM那里進口一臺EUV光刻機，但卻始終買不到，這也導(dǎo)致國人對ASML這家公司的態(tài)度并不是很好。
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新一代EUV光刻機曝光：巴士大小，造價近10億
近日，ASML方面?zhèn)鞒鱿ⅲ乱淮鷺O紫外光刻機（EUV）已研發(fā)完成，現(xiàn)階段正在進行最后一部分的安裝工作。
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