OLED全彩化技術的發(fā)展，目前較常見的全彩化技術分別是：多層化結構、積層色轉換法、畫素并置法以及彩色濾光片法等。分別介紹其特性及相關專利：

多層化結構法

多層化技術的發(fā)展可以提高顯示器的畫素精細度，此外Princeton大學與UDC有發(fā)展透明OLED顯示面板技術就是建立在此一技術上。其目前發(fā)展的缺點是由於膜層數目的增加，相對的在製程上的薄膜成長控制困難度也會增加，造成顯示器可靠度下降，〈圖一〉為多層化結構法之OLED基本結構。

　

〈表一〉為多層化結構法之OLED特性表。其中可看出可靠度部分較差，其余特性尚屬可以接受的范圍。

除了UDC發(fā)展此類多層化構造之外，目前其他廠商也有相似專利，如表2所列。


　
積層色轉換法

色轉換法的技術發(fā)展可以改善畫素并置法中，R、G、B三種顏色需要不同大小的發(fā)光電流，造成驅動IC設計難度提高的問題?！磮D二〉為色轉換法之OLED基本結構。由於色轉換法驅動電路設計較容易，因此在主動驅動模式下具有較佳的特性。

〈表三〉為色轉換法特性表。由於色轉換法驅動電路設計較容易，因此在主動驅動模式下具有較佳的特性。

目前發(fā)展此一技術的廠商以日商出光興產為主，而相關重要專利，如：〈表四〉所列。

畫素并置法是目前發(fā)展最成熟的OLED全彩化技術，不論高分子或是小分子皆以此一技術為全彩化的基礎。

畫素并置法

畫素并置法是目前發(fā)展最成熟的OLED全彩化技術，不論高分子或是小分子皆以此一技術為全彩化的基礎?；旧袭嬎夭⒅梅ň哂懈?strong>發(fā)光效率，以及高穩(wěn)定度等特性，而目前發(fā)展的方向在小分子方面則是朝向基板大型化以及畫素精細化的方向發(fā)展，〈圖三〉為畫素并置法之OLED基本結構。

〈表五〉為畫素并置法之OLED特性表，由於在效率上具有優(yōu)勢，且其余特性皆有一定水準，因此此一技術為目前廠商的主要發(fā)展方向。

彩色濾光片法是以OLED取代現有TFT LCD面板中，液晶以及背光源等結構。

目前發(fā)展此一技術的廠商以Kodak、SNMD、Pioneer、Epson、Toshiba等廠商，而我國廠商也以此技術為發(fā)展重心，相關重要專利如〈表六〉所列。

彩色濾光片法

彩色濾光片法是以OLED取代現有TFT LCD面板中，液晶以及背光源等結構，因此可以結合現有市場量產技術已經成熟的彩色濾光片技術，但是缺點為需增加彩色濾光片所帶來的成本增加以及生產效益降低等因素，〈圖四〉為使用彩色濾光片法之OLED基本結構圖。



目前發(fā)展彩色濾光片法的廠商以TDK、三菱化學等日本廠商為主。

彩色濾光片法在效率以及成本上較不具競爭力，但是卻也可以避免復雜控制電路的問題，因此適用於主動驅動模式顯示面板，如〈表七〉所示。



目前發(fā)展此一技術的廠商以TDK、三菱化學等日本廠商為主，從〈表八〉中可知一些重要的專利仍集中在幾個重要廠商身上。


　
結語

積層色轉換法在控制電路的設計上擁有簡易化的優(yōu)勢，未來可望降低成本以及提高產品良率。

〈表九〉為彩色化OLED技術專利歷年件數圖(公告日)，根據歷年專利件數統(tǒng)計結果顯示，目前全彩化OLED顯示技術，不論是小分子或者是高分子OLED都是以畫素并置法為主要發(fā)展方向，而多層化結構法在高精細顯示效果上擁有較佳的表現，但是對於面板材料的發(fā)光效率將隨著膜層增加而受到影響的情況之下，高發(fā)光效率的材料是未來多層化結構法發(fā)展的重點。而積層色轉換法在控制電路的設計上擁有簡易化的優(yōu)勢，因此未來當材料的發(fā)光與轉換效率獲得提高之后，此一技術將可有效降低製造成本以及提高產品良率等。而彩色濾光片法能夠在短期內結合現有成熟的彩色濾光片量產推出市場，預料未來全彩化技術將朝向因產品特性的不同而各有專攻的趨勢。